采用平面工艺制作的晶体管，就叫做平面晶体管。平面工艺的主要特点，就是利用光刻技术和二氧化硅膜的掩蔽作用来进行选择扩散和电极的蒸发，因此，所制成的晶体管，从硅片的表面上看来，全都被扩散层和氧化层（二氧化硅膜）所复盖（没有扩散层的地方就有氧化层），像一个平面一样。这也正是平面晶体管名称的由来。
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